0.300 mm 窒化ケイ素セラミックボール | マイクロエレクトロニクス用超精密 Si₃N₄ マイクロボール

超小型 0.300 mm シリコン窒化物セラミックボール、高精度と信頼性を備えています。マイクロエレクトロニクス、精密ベアリング、高速デバイスに最適です。

• 0.3 mm セラミックボール

• シリコン窒化物マイクロボール

• Si3N4 精密ボール

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• 超小型セラミックボール

• 精密ベアリングボール セラミック

製品概要

Φ0.300 mm シリコン窒化物 (Si₃N₄) セラミックボールは、マイクロエレクトロニクスおよび高精度アプリケーション向けに設計された超精密コンポーネントです。優れた硬度、低密度、優れた耐摩耗性を備えたこれらのマイクロセラミックボールは、性能、信頼性、寸法精度が重要なミニチュアシステムに最適です。

金属球と比較して、窒化ケイ素球は優れた耐食性、電気絶縁性、長期安定性を備えており、高度な電子および精密機械環境に適しています。

主な特徴

1. 超小型直径 (0.300 mm)
小型およびマイクロスケールアプリケーション向けに設計されています。

2. 高精度・タイトトレランス
精密アセンブリで一貫したパフォーマンスを保証します。

3. 優れた耐摩耗性
高速動作時でも長寿命。

4. 低密度 & 高強度
高速システムにおける慣性を低減します。

5. 電気絶縁・耐食性
敏感な電子環境に適しています。

アプリケーション

• マイクロエレクトロニクスデバイス

• 精密マイクロベアリング

• 半導体装置

• 光学およびフォトニクスシステム

• 高速小型メカニズム

技術的利点

• 鋼鉄製マイクロボールよりも高い信頼性

• 摩擦と発熱の低減

• 過酷な環境での安定した性能

• 超精密アセンブリに適しています

製造能力

• 高純度 Si₃N₄ 材料加工

• 精密成形と焼結

• 超微細研削・研磨

• 厳密な公差管理（マイクロスケール）

• 高度な検査と分類

カスタマイズオプション

• ボール直径 (サブミリメートル範囲)

• 精密グレード (Gレベルの公差)

• 表面仕上げと真円度

• バッチの一貫性管理

• マイクロデバイスのOEM生産

ローカライズされたタイトル (米国)

マイクロエレクトロニクス用 0.300 mm シリコン窒化物セラミックボール | アメリカの超精密マイクロボール

ローカライズされたコンテンツスニペット

私たちは、マイクロエレクトロニクスおよび高速アプリケーション向けに、アメリカ全土で超精密 0.300 mm Si₃N₄ セラミックボールを供給しています。私たちの製品は、卓越した精度と信頼性を提供します。

OEM カスタマイズおよびバルク供給が可能です。

🔹 CTA

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