Anel Grande e Ultrafino de Cerâmica de Alumina | Usinagem de Precisão de Anéis de Al₂O₃
Anel de Cerâmica de Alumina Grande e Ultrafino | Usinagem de Precisão de Anéis de Al₂O₃
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Anel Grande e Ultrafino de Cerâmica de Alumina | Usinagem de Precisão de Anéis de Al₂O₃
Personalização:
Disponível
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LC, T/T
OEM/ODM:
disponível
Amostra:Suporte pagoObter amostras
Detalhes do Produto
FAQ
Detalhes essenciais
Tempo de entrega:1 month
Envio:expresso
número da especificação:SN0010010
Introdução do Produto

Anel de Cerâmica de Alumina Grande e Ultrafino | Usinagem de Precisão de Anéis de Al₂O₃


Anéis de cerâmica de alumina personalizados de grande diâmetro e ultrafinos com usinagem de alta precisão. Excelente planicidade, resistência e estabilidade térmica para aplicações industriais avançadas.


  • palavra-chave principal: anel cerâmico de alumina

  • palavras-chave secundárias:

    • anel cerâmico de alumina grande

    • anel cerâmico ultrafino

    • anel de alumina usinado com precisão

    • anel cerâmico de grande diâmetro

    • fabricante personalizado de anéis de cerâmica


Visão Geral do Produto

O Anel de Cerâmica de Alumina Grande e Ultrafinoé um componente de alta precisão projetado para aplicações industriais exigentes que requerem grande diâmetro e espessura mínima. Fabricados a partir de alumina de alta pureza (Al₂O₃), esses anéis oferecem excelente resistência mecânica, estabilidade térmica e precisão dimensional, mesmo sob restrições de projeto desafiadoras.


Principais Características

1. Capacidade de Grande Diâmetro
Suporta a fabricação de anéis cerâmicos oversized com integridade estrutural estável.

2. Design Ultra-Fino
Capaz de produzir estruturas de parede fina enquanto mantém a resistência e a planicidade.

3. Usinagem de Alta Precisão
Tolerâncias apertadas e acabamento superficial para aplicações avançadas.

4. Excelente Estabilidade Térmica
Mantém o desempenho em ambientes de alta temperatura.

5. Alta Resistência ao Desgaste e à Corrosão
Adequado para condições industriais e químicas severas.


Aplicações

  • Equipamentos semicondutores (sistemas de gravação, deposição)

  • Sistemas e câmaras de vácuo

  • Componentes de vedação e isolamento de precisão

  • Equipamentos de fabricação de displays e eletrônicos


Vantagens Técnicas

  • Controle de alta planicidade para grandes superfícies

  • Baixo risco de deformação durante o processamento

  • Material de alta pureza (≥99% Al₂O₃ disponível)

  • Desempenho estável em ambientes de vácuo


Opções de Personalização

Especializamo-nos na fabricação de anéis cerâmicos complexos:

  • Personalização de diâmetro externo / diâmetro interno

  • Controle de espessura ultrafina

  • Otimização de planicidade e paralelismo

  • Acabamento de superfície (lapidação, polimento)

  • Designs estruturais especiais


Título Localizado (US)

Fabricante de Anéis de Cerâmica de Alumina Grande Ultrafino nos EUA | Usinagem de Precisão

Fragmento de Conteúdo Localizado

Fornecemos anéis cerâmicos de alumina grandes e ultrafinos personalizados para clientes industriais em todos os Estados Unidos. Nossas capacidades de usinagem de precisão garantem alta planicidade, tolerâncias apertadas e desempenho confiável em aplicações exigentes, como sistemas de semicondutores e vácuo.


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Tabela de Características do Material

Tipo
Unidade
A‑100
A‑200
A‑300
AZ‑100
Material
-Al₂O₃ 97%
Al₂O₃ 99.5%
Al₂O₃ 99.7%
Al₂O₃‑ZrO₂
Cor
-
Marfim brancoBranco
Branco Marfim
Branco
Densidade
g/cm³
3.75
3.9
3.92
4.2
Resistência à Flexão
MPa
280
320
370
480
Resistência à Compressão
MPa
2250
2300
2450
2700
Módulo de Elasticidade
GPa
330
370
380
350
Tenacidade à Fratura
MPa·m^½
3
4
4.5
5.5
Coeficiente de Poisson

0.23
0.22
0.22
0.24
Dureza
HRA
90
91
91
91
Dureza Vickers
HV1
1450
1550
1600
1600
Expansão Térmica
10⁻⁶K⁻¹
7.1
6.8
6.8
9.2
Condutividade Térmica
W/m·K
25
32
32
8
Choque Térmico
ΔT·℃
200
220
220
470
Temp. Máx. de Uso (Oxidante)

1200
1400
1650
1000
Temp. Máx. de Uso (Redução)

1200
1400
1700
1000
Resistividade de Volume (20℃)
Ω·cm
10¹⁴
10¹⁵
10¹⁵
10¹⁴
Rigidez Dielétrica
kV/mm
16
20
22
16.5
Constante Dielétrica(1MHz)
-11.5111011
Perda Dielétrica (tanδ)
1MHz
3×10⁻³
1×10⁻³
1×10⁻³
2×10⁻²

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