Anel Cerâmico de Óxido de Ítrio (Y₂O₃) | Anéis Cerâmicos de Alta Pureza Resistentes a Plasma para Equipamentos de Semicondutores
Anel Cerâmico de Óxido de Ítrio (Y₂O₃) | Anéis Cerâmicos de Alta Pureza Resistentes a Plasma para Equipamentos de Semicondutores
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Anel Cerâmico de Ítria (Y₂O₃) | Anéis Cerâmicos de Alta Pureza Resistentes a Plasma para Equipamentos de Semicondutores
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Introdução do Produto

Anel Cerâmico de Itria (Y₂O₃) | Anéis Cerâmicos de Alta Pureza Resistentes a Plasma para Equipamentos de Semicondutores


Anéis cerâmicos de alta pureza de ítria (Y₂O₃) com excelente resistência ao plasma e à corrosão. Ideal para câmaras de semicondutores e aplicações de gravação.


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Visão Geral do Produto

Anéis cerâmicos de Itria (Y₂O₃) são componentes avançados projetados para ambientes de plasma de semicondutores, particularmente em sistemas de gravação (etching) e deposição. Com resistência excepcional ao plasma, pureza ultra-alta e excelente resistência à corrosão, os anéis cerâmicos de itria reduzem significativamente a contaminação e prolongam a vida útil dos componentes em condições de processamento agressivas.


Principais Características

1. Resistência Superior ao Plasma
Resistência excepcional ao plasma à base de flúor, reduzindo a erosão e a geração de partículas.

2. Ultra-Alta Pureza
Minimiza a contaminação em processos de fabricação de semicondutores.

3. Excelente Resistência à Corrosão
Desempenha de forma confiável em ambientes quimicamente agressivos.

4. Estabilidade em Altas Temperaturas
Mantém a integridade estrutural sob condições de processamento de alta temperatura.

5. Baixa Geração de Partículas
Garante compatibilidade com sala limpa e alto rendimento.


Aplicações

  • Equipamentos de gravação de semicondutores

  • Câmaras de processamento de plasma

  • Sistemas de deposição CVD / PVD

  • Equipamentos de fabricação de wafers

  • Ambientes de sala limpa de alta pureza


Vantagens Técnicas

  • Vida útil estendida em ambientes de plasma

  • Manutenção e tempo de inatividade reduzidos

  • Estabilidade de processo e rendimento aprimorados

  • Menor risco de contaminação em comparação com cerâmicas convencionais


Opções de Personalização

  • Diâmetros externos e internos

  • Espessura e perfil do anel

  • Acabamento e polimento de superfície

  • Integração com conjuntos de câmara

  • Produção OEM baseada em desenhos


Título Localizado (US)

Anéis Cerâmicos de Ítria para Aplicações de Plasma em Semicondutores | Fornecedor de Componentes de Y₂O₃ de Alta Pureza nos EUA

Fragmento de Conteúdo Localizado

Fornecemos anéis cerâmicos de ítria de alta pureza em todos os Estados Unidos para equipamentos de processamento de plasma de semicondutores. Nossos componentes de Y₂O₃ oferecem resistência superior ao plasma, baixa contaminação e longa vida útil.

Personalização OEM e suporte de engenharia disponíveis.


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