氮化铝盖环 | 半导体设备用高导热性AlN压环
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基本信息
物流方式:快递
规格编号:SN001Al2O3049
商品介绍

复杂高精度氮化铝陶瓷加工 | 先进的AlN加工解决方案


复杂铝氮化物(AlN)陶瓷组件的先进加工。高精度、紧公差,以及出色的热导率,适用于半导体和电子应用。


  • 氮化铝陶瓷加工

  • 高精度AlN加工

  • 复杂陶瓷加工服务

  • AlN精密组件

  • 半导体陶瓷加工

  • 先进陶瓷制造


产品概述

复杂的氮化铝(AlN)陶瓷精密加工服务旨在满足半导体、电子和先进工业应用领域严苛的要求。凭借处理复杂几何形状和严苛公差的专业知识,这些服务能够生产出具有优异导热性和电绝缘性的高性能AlN组件。


关键能力

1. 复杂几何形状加工
能够生产复杂形状、内部结构和多特征设计。

2. 高精度与严苛公差
实现微米级精度以满足关键应用。

3. 微特征加工
支持微孔、精细通道和细节结构元素。

4. 高表面质量
抛光和精加工,以提高性能并减少颗粒产生。

5. 大型薄壁结构加工能力
可处理大型组件和超薄结构。


应用

  • 半导体设备组件

  • 电子基板和散热片

  • 精密流体控制部件

  • 等离子体和真空系统组件

  • 高端工业组件


技术优势

  • 将热导率与结构精度相结合

  • 实现先进的设计灵活性

  • 在严苛环境中具有高可靠性

  • 适用于洁净室和高科技应用


定制选项

  • 复杂的2D/3D几何形状

  • 微孔和通道加工

  • 表面粗糙度和光洁度

  • 公差和平整度控制

  • 基于CAD图纸的OEM生产


本地化标题(美国)

高精度氮化铝陶瓷加工 | 美国先进陶瓷加工供应商

本地化内容片段

我们为美国各地的客户提供复杂的高精度氮化铝陶瓷加工服务。我们的能力支持需要严格公差和优越热性能的半导体、电子和先进制造应用。

提供OEM定制和工程支持。


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材料特性


品类等级 AlN-HT170AlN-S170
化学组成AlN%%≥99.5≥99.5
化学结构
生产工艺 热压气氛烧结
生产工艺
密度g/cm3≥3.26g/cm3≥3.3g/cm3
密度
热导(常温)W/m.k≥170≥170
20℃时的热导率
表面粗糙度um≤ 2≤ 2
表面质量
里氏硬度HL800750
硬度
抗弯强度Mpa≥350≥350
抗弯强度

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