用于半导体封装和测试设备的氧化锆陶瓷表面组件 | 精密 ZrO₂ 部件
用于半导体组装和测试设备的高纯氧化锆陶瓷表面组件。在洁净室环境中具有出色的耐磨性、低颗粒产生和高尺寸稳定性。
氧化锆陶瓷半导体元件
半导体设备用陶瓷零件
ZrO2 封装测试设备组件
低颗粒陶瓷表面部件
半导体洁净室陶瓷组件
耐磨陶瓷半导体零件
产品概述
用于半导体封装和测试设备的氧化锆陶瓷表面组件,专为满足洁净室环境的严格要求而设计。这些部件由高性能氧化锆(ZrO₂)制成,具有出色的耐磨性、低颗粒产生和卓越的尺寸稳定性,是高精度半导体组装和测试工艺的理想选择。
主要特点
1. 低颗粒产生
最大限度地降低半导体洁净室运行中的污染风险。
2. 出色的耐磨性
在重复接触和机械应力下保持表面完整性。
3. 高尺寸稳定性
确保半导体设备的精度和可重复性。
4. 耐化学腐蚀性
可兼容清洁剂和工艺化学品。
5. 非金属且无污染
非常适合敏感的半导体制造环境。
应用
半导体封装和测试设备
晶圆处理和定位系统
组装机中的表面接触组件
精密夹具和支撑零件
洁净室自动化系统
技术优势
由于污染低,降低了缺陷风险
高循环运行下的长使用寿命
在洁净室条件下性能稳定
适用于高精度半导体工艺
定制选项
表面几何形状和接触设计
表面粗糙度控制 (Ra 用于减少颗粒)
精密设备的尺寸公差
可与金属或聚合物组件集成
根据图纸进行OEM生产
本地化标题 (美国)
用于半导体封装和测试设备的氧化锆陶瓷元件 | 美国洁净室零件供应商
本地化内容片段
我们为美国各地的半导体封装和测试设备提供精密氧化锆陶瓷零件。我们的零件专为洁净室环境中的低颗粒产生、高耐磨性和稳定性能而设计。
提供OEM定制和工程支持。
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| 类型 | 单位 | A‑100 | A‑200 | A‑300 | AZ‑100 |
| 材料 | - | Al₂O₃ 97% | Al₂O₃ 99.5% | Al₂O₃ 99.7% | Al₂O₃‑ZrO₂ |
| 颜色 | - | 象牙白 | 白色 | 象牙白 | 白色 |
| 密度 | g/cm³ | 3.75 | 3.9 | 3.92 | 4.2 |
| 弯曲强度 | 兆帕 | 280 | 320 | 370 | 480 |
| 抗压强度 | MPa | 2250 | 2300 | 2450 | 2700 |
| 弹性模量 | 吉帕 | 330 | 370 | 380 | 350 |
| 断裂韧性 | 兆帕·米^½ | 3 | 4 | 4.5 | 5.5 |
| 泊松比 | — | 0.23 | 0.22 | 0.22 | 0.24 |
| 硬度 | HRA | 90 | 91 | 91 | 91 |
| 维氏硬度 | 高压1 | 1450 | 1550 | 1600 | 1600 |
| 热膨胀 | 10⁻⁶K⁻¹ | 7.1 | 6.8 | 6.8 | 9.2 |
| 导热性 | W/m·K | 25 | 32 | 32 | 8 |
| 热冲击 | ΔT·℃ | 200 | 220 | 220 | 470 |
| 最高使用温度 (氧化性) | ℃ | 1200 | 1400 | 1650 | 1000 |
| 最高使用温度(还原性气氛) | ℃ | 1200 | 1400 | 1700 | 1000 |
| 体积电阻率 (20℃) | Ω·cm | 10¹⁴ | 10¹⁵ | 10¹⁵ | 10¹⁴ |
| 介电强度 | kV/mm | 16 | 20 | 22 | 16.5 |
| 介电常数 (1MHz) | - | 11.5 | 11 | 10 | 11 |
| 介电损耗 (tanδ) | 1兆赫 | 3×10⁻³ | 1×10⁻³ | 1×10⁻³ | 2×10⁻² |
