Großformatige Aluminiumnitrid-Dünnplatten | Präzisions-AlN-Keramikbearbeitung & Substrate
Großformatige Aluminiumnitrid-Dünnplatten | Präzisions-AlN-Keramikbearbeitung & Substrate
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Großformatige Aluminiumnitrid-Dünnplatten | Präzisions-AlN-Keramikbearbeitung & Substrate
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Spezifikationsnummer:SN001Al2O3046
Produkteinführung

Großformatige Aluminiumnitrid-Dünnplatten | Präzisions-AlN-Keramikbearbeitung & Substrate


🔹 Meta-Beschreibung

Präzisionsbearbeitung von großflächigen Aluminiumnitrid (AlN) Dünnplatten. Hohe Wärmeleitfähigkeit, ausgezeichnete Isolation und überlegene Ebenheit für Halbleiter- und Elektronikanwendungen.


🔹 Kern-Schlüsselwörter

  • Aluminiumnitrid-Dünnplatte

  • Großformatige AlN-Keramikplatte

  • AlN-Substratbearbeitung

  • Hochwärmeleitfähige Keramikplatte

  • Präzisions-Keramik-Dünnschicht

  • Halbleiter-AlN-Wafer


🔹 Produktseiteninhalt

Produktübersicht

Großdurchmesser-Aluminium-Nitrid (AlN) Dünnplatten sind fortschrittliche keramische Komponenten, die für das Hochleistungswärmemanagement und elektronische Anwendungen entwickelt wurden. Mit Fähigkeiten in der Großformatformung und ultra-dünner Präzisionsbearbeitung bieten diese Platten hervorragende Wärmeleitfähigkeit, elektrische Isolation und hohe Ebenheit, was sie ideal für Halbleiter- und Hochleistungs-Elektronik-Umgebungen macht.


Hauptmerkmale

1. Große Durchmesserverarbeitungskapazität
Unterstützt die Herstellung von Wafer- und übergroßen Keramikplatten.

2. Ultra-Dünne Dickenkontrolle
Ermöglicht dünne Profile bei gleichzeitiger Beibehaltung der strukturellen Integrität.

3. Hohe Wärmeleitfähigkeit
Effiziente Wärmeableitung für Leistungselektronik und Wärmemanagementsysteme.

4. Ausgezeichnete elektrische Isolation
Gewährleistet sicheren Betrieb in elektronischen und Halbleiteranwendungen.

5. Hohe Ebenheit & Parallelität
Kritisch für präzise Montage und gleichmäßigen thermischen Kontakt.


Anwendungen

  • Halbleitersubstrate und Ausrüstungsteile

  • Wärmespreizer für Leistungselektronik

  • Elektronische Gehäuse und Module

  • Vakuum- und Plasmaprozesssysteme

  • Präzisions-Industrie-Baugruppen


Technische Vorteile

  • Überlegene Wärmeübertragungseffizienz

  • Geringe Wärmeausdehnung für Dimensionsstabilität

  • Hohe Zuverlässigkeit in Hochtemperaturumgebungen

  • Geeignet für die Reinraumfertigung


Anpassungsoptionen

  • Außenabmessungen und Dicke (Ultra-Dünn-Fähigkeit)

  • Ebenheits- und Parallelitätsspezifikationen

  • Oberflächenbearbeitung und Polieren

  • Durchgangslöcher, Schlitze oder Musterbearbeitung

  • OEM-Produktion nach Zeichnung

Lokalisierter Titel (US)

Großformatige Aluminiumnitrid-Dünnplatten | Präzisionskeramikbearbeitungsanbieter in den USA

Lokalisierter Inhaltsausschnitt

Wir bieten Präzisionsbearbeitung von großformatigen Aluminiumnitrid-Dünnplatten für Kunden in den gesamten Vereinigten Staaten. Unsere AlN-Komponenten bieten hohe Wärmeleitfähigkeit, elektrische Isolierung und überlegene Ebenheit für Halbleiter- und Elektronikanwendungen.

OEM-Anpassung und technischer Support verfügbar.


🔹 CTA

  • Angebot für eine kundenspezifische AlN-Platte anfordern

  • Reichen Sie Ihre technischen Zeichnungen ein

  • Kontaktieren Sie unser Ingenieurteam


Materialeigenschaften


KategorieQualität AlN-HT170AlN-S170
化学组成AlN %%≥99,5≥99,5
Chemische Struktur
Herstellungsprozess HeißpressenAtmosphärensinterung
Produktionsprozess
密度g/cm3≥3,26 g/cm3≥3,3 g/cm3
Dichte
Wärmeleitfähigkeit (Raumtemperatur)W/m·K≥170≥170
Wärmeleitfähigkeit bei 20℃
表面粗糙度µm≤ 2≤ 2
 Oberflächenbeschaffenheit
RückerhärteHL800750
Härte
BiegefestigkeitMpa≥350≥350
Biegefestigkeit

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