Pièces en céramique d'alumine pour équipements d'implantation ionique | Composants semi-conducteurs de haute pureté
Pièces en céramique d'alumine de haute pureté pour équipements d'implantation ionique. Excellente isolation électrique, stabilité thermique et résistance au plasma pour les environnements de fabrication de semi-conducteurs.
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Présentation du produit
Les pièces en céramique d'alumine pour équipements d'implantation ionique sont des composants de précision conçus pour les systèmes de fabrication de semi-conducteurs. Fabriquées à partir d'alumine de haute pureté (Al₂O₃), ces pièces offrent une excellente isolation électrique, une stabilité thermique et une résistance aux environnements plasma et sous vide, garantissant des performances fiables dans les processus de semi-conducteurs avancés.
Caractéristiques principales
1. Alumine de haute pureté (≥99%)
Minimise la contamination et répond aux normes de propreté strictes des semi-conducteurs.
2. Excellente Isolation Électrique
Supporte un fonctionnement stable dans les systèmes d'implantation ionique haute tension.
3. Compatibilité plasma et vide
Résistant à l'exposition au plasma et adapté aux environnements ultra-vide.
4. Stabilité thermique
Maintient la stabilité dimensionnelle sous les fluctuations de température.
5. Faible génération de particules
Essentiel pour maintenir le rendement des plaquettes et la fiabilité du processus.
Applications
Systèmes d'implantation ionique
Équipement de traitement des plaquettes de semi-conducteurs
Chambres de traitement sous vide et plasma
Composants d'isolation haute tension
Outils de précision pour semi-conducteurs
Avantages techniques
Matériau non métallique et non magnétique
Haute rigidité diélectrique
Résistance à la corrosion dans des environnements réactifs
Convient aux salles blanches et aux usines de semi-conducteurs
Options de personnalisation
Géométries complexes pour l'intégration d'équipements
Usinage de haute précision et tolérances serrées
Finition de surface pour une faible génération de particules
Conceptions personnalisées basées sur les exigences des équipements à semi-conducteurs
Titre localisé (US)
Pièces en céramique d'alumine pour équipements d'implantation ionique | Fournisseur de semi-conducteurs aux États-Unis
Extrait de contenu localisé
Nous fournissons des composants en céramique d'alumine de haute pureté pour les systèmes d'implantation ionique aux fabricants de semi-conducteurs aux États-Unis. Nos pièces sont conçues pour la compatibilité sous vide, la résistance au plasma et les performances de précision dans les environnements de traitement de plaquettes avancés.
Support technique et livraison mondiale disponibles.
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| Type | Unité | A‑100 | A‑200 | A‑300 | AZ‑100 |
| Matériau | - | Al₂O₃ 97% | Al₂O₃ 99.5% | Al₂O₃ 99,7% | Al₂O₃‑ZrO₂ |
| Couleur | - | Ivoire blanc | Blanc | Blanc Ivoire | Blanc |
| Densité | g/cm³ | 3.75 | 3.9 | 3.92 | 4.2 |
| Résistance à la flexion | MPa | 280 | 320 | 370 | 480 |
| Résistance à la compression | MPa | 2250 | 2300 | 2450 | 2700 |
| Module d'élasticité | GPa | 330 | 370 | 380 | 350 |
| Résistance à la fracture | MPa·m^½ | 3 | 4 | 4.5 | 5.5 |
| Coefficient de Poisson | — | 0.23 | 0.22 | 0.22 | 0.24 |
| Dureté | HRA | 90 | 91 | 91 | 91 |
| Dureté Vickers | HV1 | 1450 | 1550 | 1600 | 1600 |
| Dilatation thermique | 10⁻⁶K⁻¹ | 7.1 | 6.8 | 6.8 | 9.2 |
| Conductivité thermique | W/m·K | 25 | 32 | 32 | 8 |
| Choc thermique | ΔT·℃ | 200 | 220 | 220 | 470 |
| Temp. max. d'utilisation (oxydante) | ℃ | 1200 | 1400 | 1650 | 1000 |
| Température Max d'Utilisation (Réductrice) | ℃ | 1200 | 1400 | 1700 | 1000 |
| Résistivité volumique (20℃) | Ω·cm | 10¹⁴ | 10¹⁵ | 10¹⁵ | 10¹⁴ |
| Résistance diélectrique | kV/mm | 16 | 20 | 22 | 16.5 |
| Constante Diélectrique (1MHz) | - | 11.5 | 11 | 10 | 11 |
| Perte diélectrique (tanδ) | 1MHz | 3×10⁻³ | 1×10⁻³ | 1×10⁻³ | 2×10⁻² |
