半導体製造用に設計された高純度アルミナセラミックウェーハハンドリングアーム。優れた熱安定性、耐摩耗性、および汚染のないウェーハ移送を実現します。カスタムソリューションも利用可能です。
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セラミックウェーハ移送アーム
半導体ウェーハハンドリングロボットアーム
高純度アルミナコンポーネント
ウェーハハンドリングエンドエフェクタ
半導体用精密セラミックアーム
製品概要
、アルミナセラミックウェーハハンドリングアームは、半導体製造環境における精密ウェーハ移送のために設計された高性能コンポーネントです。高純度アルミナ（Al₂O₃）から製造されており、優れた機械的強度、熱安定性、および超低パーティクル発生率を提供し、デリケートなウェーハの汚染のないハンドリングを保証します。
主な特徴
1. 高純度材料 (≥ 99% Al₂O₃)
優れた耐薬品性を確保し、ウェーハハンドリングプロセス中の汚染を防ぎます。
2. 優れた耐摩耗性
継続的な自動運転下でも、耐用年数を延長します。
3. 優れた熱安定性
高温処理環境下でも構造的完全性を維持します。
4. 超低パーティクル発生
半導体ファブのクリーンルーム用途に最適です。
5. 精密加工
安全かつ正確なウェーハ移送のための、厳しい公差と滑らかな表面仕上げ。
用途
半導体ウェーハハンドリングシステム
ウェーハ移送ロボット
真空処理装置
クリーンルーム自動化システム
技術的優位性
非金属、非磁性材料
高い絶縁破壊強度
過酷な環境下での耐食性
真空およびプラズマ環境との互換性
カスタマイズオプション
お客様の特定の要件に基づいたカスタムソリューションを提供します。
寸法と形状
表面処理（研磨、コーティング）
取り付けインターフェース
ロボットシステムとの統合
ローカライズタイトル（米国）
米国におけるアルミナセラミックウェーハハンドリングアームサプライヤー | 半導体精密部品
ローカライズされたコンテンツスニペット
当社は、カリフォルニア、テキサス、アリゾナを含む米国全土の半導体メーカーに高品質のアルミナセラミックウェーハハンドリングアームを供給しています。当社の製品は、高度な半導体ファブの厳しい要件を満たし、信頼性、精度、および長期的なパフォーマンスを保証します。
米国のお客様向けに、迅速な国際配送とエンジニアリングサポートをご利用いただけます。
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| タイプ | ユニット | A‑100 | A‑200 | A‑300 | AZ‑100 |
| 材質 | - | Al₂O₃ 97% | Al₂O₃ 99.5% | Al₂O₃ 99.7% | Al₂O₃‑ZrO₂ |
| 色 | - | 白象牙色 | ホワイト | 象牙色 | 白 |
| 密度 | g/cm³ | 3.75 | 3.9 | 3.92 | 4.2 |
| 曲げ強度 | MPa | 280 | 320 | 370 | 480 |
| 圧縮強度 | MPa | 2250 | 2300 | 2450 | 2700 |
| 弾性率 | GPa | 330 | 370 | 380 | 350 |
| 破壊靭性 | MPa·m^½ | 3 | 4 | 4.5 | 5.5 |
| ポアソン比 | — | 0.23 | 0.22 | 0.22 | 0.24 |
| 硬度 | HRA | 90 | 91 | 91 | 91 |
| ビッカース硬さ | HV1 | 1450 | 1550 | 1600 | 1600 |
| 熱膨張 | 10⁻⁶K⁻¹ | 7.1 | 6.8 | 6.8 | 9.2 |
| 熱伝導率 | W/m·K | 25 | 32 | 32 | 8 |
| 熱衝撃 | ΔT·℃ | 200 | 220 | 220 | 470 |
| 最高使用温度（酸化雰囲気） | ℃ | 1200 | 1400 | 1650 | 1000 |
| 最大使用温度（還元雰囲気） | ℃ | 1200 | 1400 | 1700 | 1000 |
| 体積抵抗率（20℃） | Ω·cm | 10¹⁴ | 10¹⁵ | 10¹⁵ | 10¹⁴ |
| 絶縁破壊強度 | kV/mm | 16 | 20 | 22 | 16.5 |
| 誘電率 (1MHz) | - | 11.5 | 11 | 10 | 11 |
| 誘電正接 (tanδ) | 1MHz | 3×10⁻³ | 1×10⁻³ | 1×10⁻³ | 2×10⁻² |