厚さ0.1mmマイクロ穴加工アルミナセラミックディスク | 精密マイクロドリル加工Al₂O₃部品
0.1mmのマイクロホール加工を施した高精度アルミナセラミックディスク。先進的なドリリング能力、厳密な公差、流体、ガス、産業用途における優れた性能。
アルミナセラミックディスク
微細穴加工されたセラミックディスク
0.1mmセラミック微細穴加工
精密セラミック加工
Al2O3 マイクロドリル加工部品
カスタムセラミックディスク
製品概要
厚さ0.1mmのマイクロ穴加工が施されたアルミナセラミックディスクは、超小径および高寸法精度を必要とする用途向けに設計された精密エンジニアリング部品です。高純度アルミナ(Al₂O₃)から製造されており、優れた硬度、熱安定性、耐摩耗性と高度なマイクロドリル加工技術を組み合わせています。
主な特徴
1. 0.1mmマイクロホール能力
高度な加工技術により、安定かつ高精度な微細穴加工が可能です。
2. 高純度アルミナ材料
優れた機械的強度、電気絶縁性、および耐薬品性を提供します。
3. 厳密な寸法公差
一貫した穴径、位置決め、および繰り返し精度を保証します。
4. 優れた耐摩耗性
連続運転下での構造的完全性を維持します。
5. スムーズな表面仕上げ
精密システムにおける流体抵抗を低減し、性能を向上させます。
用途
高精度流体制御システム
マイクロディスペンシング機器
半導体製造装置
ガスまたは液体フィルタリングコンポーネント
マイクロ流体および分析デバイス
技術的優位性
脆性セラミック材料への安定した微細穴加工
バッチ生産の高い再現性
高温および腐食環境に耐性があります
クリーンルームおよび高純度アプリケーションに適しています
カスタマイズオプション
マイクロホール直径(設計に応じて0.1mm以下を含む)
ディスクの直径と厚さ
穴レイアウトおよびパターン設計
表面仕上げ (ラップ加工 / 研磨)
単孔または多孔構成
ローカライズされたタイトル (US)
アメリカの0.1mmマイクロホール加工サプライヤーのアルミナセラミックディスク | 精密Al₂O₃部品
ローカライズされたコンテンツスニペット
米国産業界のお客様に、高精度な微細穴加工セラミックディスクを提供しています。当社の高度な製造能力により、半導体、流体制御、精密工学用途に適した、公差の厳しい0.1mmの微細穴加工が可能です。
| タイプ | 単位 | A‑100 | A‑200 | A‑300 | AZ‑100 |
| 材料 | - | Al₂O₃ 97% | Al₂O₃ 99.5% | Al₂O₃ 99.7% | Al₂O₃‑ZrO₂ |
| 色 | - | 白象牙 | 白 | アイボリーホワイト | 白 |
| 密度 | g/cm³ | 3.75 | 3.9 | 3.92 | 4.2 |
| 曲げ強度 | MPa | 280 | 320 | 370 | 480 |
| 圧縮強度 | MPa | 2250 | 2300 | 2450 | 2700 |
| 弾性率 | GPa | 330 | 370 | 380 | 350 |
| 破壊靭性 | MPa·m^½ | 3 | 4 | 4.5 | 5.5 |
| ポアソン比 | — | 0.23 | 0.22 | 0.22 | 0.24 |
| 硬度 | HRA | 90 | 91 | 91 | 91 |
| ビッカース硬さ | HV1 | 1450 | 1550 | 1600 | 1600 |
| 熱膨張率 | 10⁻⁶K⁻¹ | 7.1 | 6.8 | 6.8 | 9.2 |
| 熱伝導率 | W/m·K | 25 | 32 | 32 | 8 |
| 熱衝撃 | ΔT·℃ | 200 | 220 | 220 | 470 |
| 最大使用温度(酸化) | ℃ | 1200 | 1400 | 1650 | 1000 |
| 最大使用温度(還元雰囲気) | ℃ | 1200 | 1400 | 1700 | 1000 |
| 体積抵抗率 (20℃) | Ω·cm | 10¹⁴ | 10¹⁵ | 10¹⁵ | 10¹⁴ |
| 絶縁破壊強度 | kV/mm | 16 | 20 | 22 | 16.5 |
| 誘電率(1MHz) | - | 11.5 | 11 | 10 | 11 |
| 誘電正接 (tanδ) | 1MHz | 3×10⁻³ | 1×10⁻³ | 1×10⁻³ | 2×10⁻² |

