窒化アルミニウムカバーリング | 半導体装置用高熱伝導率AlN圧縮リング
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ディテール
配送方法:快递
規格番号:SN001Al2O3049
製品ディテール

Complex High-Precision Aluminum Nitride Ceramic Machining | Advanced AlN Processing Solutions


複雑な窒化アルミニウム(AlN)セラミック部品の高度な加工。半導体および電子アプリケーション向けに、高精度、タイトな公差、優れた熱伝導率を実現します。


  • aluminum nitride ceramic machining

  • 高精度AlN加工

  • 複雑セラミック加工サービス

  • AlN precision components

  • 半導体セラミック加工

  • 高度セラミック製造


製品概要

複雑な高精度窒化アルミニウム(AlN)セラミック加工サービスは、半導体、エレクトロニクス、および高度な産業用途の厳しい要件を満たすように設計されています。複雑な形状やタイトトレランスの取り扱いにおける専門知識により、優れた熱伝導率と電気絶縁性を備えた高性能AlNコンポーネントの製造を可能にします。


主要な能力

1. 複雑なジオメトリ加工
複雑な形状、内部構造、およびマルチフィーチャー設計の製造が可能です。

2. 高精度・タイトトレランス
クリティカルなアプリケーションでミクロンレベルの精度を実現します。

3. マイクロフィーチャー加工
マイクロホール、細いチャネル、詳細な構造要素をサポートします。

4. High Surface Quality
性能向上と粒子生成の低減のための研磨と仕上げ。

5. 大型および薄型構造能力
大型コンポーネントと超薄型構造の両方に対応します。


用途

  • Semiconductor equipment components

  • 電子基板と熱拡散器

  • 精密流体制御部品

  • プラズマおよび真空システムコンポーネント

  • High-end industrial assemblies


技術的利点

  • Combines thermal conductivity with structural precision

  • Enables advanced design flexibility

  • 過酷な環境下での高い信頼性

  • クリーンルームおよびハイテクアプリケーションに適しています


カスタマイズオプション

  • 複雑な2D/3Dジオメトリ

  • マイクロホールとチャネル加工

  • 表面粗さと仕上げ

  • 公差および平面度制御

  • CAD図面に基づくOEM生産


Localized Title (US)

High-Precision Aluminum Nitride Ceramic Machining | Advanced Ceramic Processing Supplier in USA

ローカライズされたコンテンツスニペット

We provide complex, high-precision aluminum nitride ceramic machining services to customers across the United States. Our capabilities support semiconductor, electronics, and advanced manufacturing applications requiring tight tolerances and superior thermal performance.

OEMカスタマイズおよびエンジニアリングサポートが利用可能です。


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材料特性


品类グレード AlN-HT170AlN-S170
化学組成AlN%%≥99.5≥99.5
Chemical structure
生産工芸 Hot Pressing雰囲気焼結
生産プロセス
密度g/cm3≥3.26g/cm3≥3.3g/cm3
Density
熱伝導率 (常温)W/m.k≥170≥170
Thermal conductivity at 20℃
表面粗糙度um≤ 2≤ 2
表面性
ロックウェル硬度HL800750
硬度
抗弯强度Mpa≥350≥350
曲げ強度

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