大口径窒化アルミニウム薄板 | 高精度AlNウェハーレベル加工

大口径アルミナイトライド（AlN）薄板の精密加工。半導体および電子用途向けの高い熱伝導率、優れた絶縁性、および優れた平坦性。

• 窒化アルミニウム薄板

• 大口径AlNセラミックプレート

• AlNウェハスケール加工

• 高熱伝導性セラミックプレート

• 精密セラミック薄板

• 半導体AlN基板

製品概要

大口径アルミナイトライド（AlN）薄板は、高性能熱管理および電子アプリケーション向けに設計された精密セラミックコンポーネントです。高度な加工能力により、これらの板は大口径、超薄厚、高平坦性を実現し、半導体機器、電子基板、熱放散システムに最適です。

主な特徴

1. 大口径能力
ウェハスケールおよび大型セラミックプレートの製造をサポートします。

2. 超薄加工
高い構造的完全性を持つ最小厚さを実現します。

3. 高熱伝導性
高出力電子機器用途向けの効率的な放熱。

4. 優れた電気絶縁性
敏感な電子および半導体環境に適しています。

5. 高平面度と精度
精密アセンブリにおける均一な接触とパフォーマンスを保証します。

アプリケーション

• 半導体基板および装置部品

• 電子パッケージングおよび熱拡散器

• パワーエレクトロニクスの熱管理

• 真空およびプラズマ処理装置

• 精密産業アセンブリ

技術的利点

• 優れた熱放散性能

• 薄構造における安定した機械的特性

• 寸法安定性のための低熱膨張

• クリーンルームおよびハイテク用途に適しています

カスタマイズオプション

• 直径と厚さ（超薄制御）

• 平面度および平行度の仕様

• 表面仕上げと研磨

• 穴加工またはパターン処理

• 図面に基づくOEM生産

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大口径アルミナイトライド薄板 | 米国の精密セラミック加工サプライヤー

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私たちは、アメリカ全土の顧客向けに大口径アルミニウム窒化物薄板の精密加工を提供しています。私たちのAlNコンポーネントは、高い熱伝導性、優れた絶縁性、半導体および電子アプリケーション向けの優れた平面度を提供します。

OEMカスタマイズおよびエンジニアリングサポートをご利用いただけます。

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