半導体パッケージング・テスト装置用ジルコニアセラミック表面部品 | 精密ZrO₂部品
半導体組立・試験装置用高純度ジルコニアセラミック表面部品。優れた耐摩耗性、低パーティクル発生、クリーンルーム環境での高い寸法安定性を備えています。
ジルコニアセラミック半導体部品
半導体装置用セラミック部品
ZrO2パッケージング試験装置部品
低パーティクルセラミック表面部品
半導体クリーンルーム用セラミック部品
耐摩耗性セラミック部品 半導体
製品概要
半導体パッケージングおよびテスト装置用のジルコニアセラミック表面部品は、クリーンルーム環境の厳格な要件を満たすように設計されています。高性能ジルコニア(ZrO₂)から製造されたこれらの部品は、優れた耐摩耗性、低パーティクル発生、および優れた寸法安定性を提供し、高精度な半導体アセンブリおよびテストプロセスに最適です。
主な特徴
1. 低パーティクル発生
半導体クリーンルームオペレーションにおける汚染リスクを最小限に抑えます。
2. 優れた耐摩耗性
繰り返し接触および機械的ストレス下で表面の完全性を維持します。
3. 高次元安定性
半導体装置における精度と繰り返し性を保証します。
4. 耐薬品性
洗浄剤およびプロセス薬品との互換性があります。
5. 非金属・非汚染性
デリケートな半導体製造環境に最適です。
用途
半導体パッケージング・テスト装置
ウェーハハンドリングおよび位置決めシステム
組立機の表面接触部品
精密治具およびサポート部品
クリーンルーム自動化システム
技術的利点
低汚染による欠陥リスクの低減
高サイクル動作下での長寿命
クリーンルーム環境での安定した性能
高精度半導体プロセスに適しています
カスタマイズオプション
表面形状と接触設計
表面粗さ制御 (Ra、粒子低減用)
精密機器の寸法公差
金属またはポリマーアセンブリとの統合
図面に基づくOEM生産
ローカライズされたタイトル (US)
半導体パッケージングおよびテスト装置用ジルコニアセラミック部品 | 米国クリーンルーム部品サプライヤー
ローカライズされたコンテンツスニペット
当社は、米国全土の半導体パッケージングおよび試験装置向けに精密ジルコニアセラミック部品を供給しています。当社の部品は、低パーティクル発生、高耐摩耗性、クリーンルーム環境での安定した性能を特徴としています。
OEMカスタマイズおよびエンジニアリングサポートをご利用いただけます。
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| タイプ | 単位 | A-100 | A‑200 | A‑300 | AZ‑100 |
| 材質 | - | Al₂O₃ 97% | Al₂O₃ 99.5% | Al₂O₃ 99.7% | Al₂O₃‑ZrO₂ |
| 色 | - | 白象牙色 | ホワイト | アイボリーホワイト | ホワイト |
| 密度 | g/cm³ | 3.75 | 3.9 | 3.92 | 4.2 |
| 曲げ強度 | MPa | 280 | 320 | 370 | 480 |
| 圧縮強度 | MPa | 2250 | 2300 | 2450 | 2700 |
| 弾性率 | GPa | 330 | 370 | 380 | 350 |
| 破壊靭性 | MPa·m^½ | 3 | 4 | 4.5 | 5.5 |
| ポアソン比 | — | 0.23 | 0.22 | 0.22 | 0.24 |
| 硬度 | HRA | 90 | 91 | 91 | 91 |
| ビッカース硬さ | HV1 | 1450 | 1550 | 1600 | 1600 |
| 熱膨張 | 10⁻⁶K⁻¹ | 7.1 | 6.8 | 6.8 | 9.2 |
| 熱伝導率 | W/m·K | 25 | 32 | 32 | 8 |
| 熱衝撃 | ΔT·℃ | 200 | 220 | 220 | 470 |
| 最高使用温度 (酸化雰囲気) | ℃ | 1200 | 1400 | 1650 | 1000 |
| 最大使用温度(還元雰囲気) | ℃ | 1200 | 1400 | 1700 | 1000 |
| 体積抵抗率 (20℃) | Ω·cm | 10¹⁴ | 10¹⁵ | 10¹⁵ | 10¹⁴ |
| 絶縁破壊強度 | kV/mm | 16 | 20 | 22 | 16.5 |
| 誘電率 (1MHz) | - | 11.5 | 11 | 10 | 11 |
| 誘電損失 (tanδ) | 1MHz | 3×10⁻³ | 1×10⁻³ | 1×10⁻³ | 2×10⁻² |
