Braço de manuseio de wafer de cerâmica de alumina de alta pureza projetado para fabricação de semicondutores. Excelente estabilidade térmica, resistência ao desgaste e transferência de wafer sem contaminação. Soluções personalizadas disponíveis.
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Visão Geral do Produto
O Braço Robótico para Manuseio de Wafer de Cerâmica de Alumina é um componente de alto desempenho projetado para transferência de wafer de precisão em ambientes de fabricação de semicondutores. Fabricado a partir de alumina de alta pureza (Al₂O₃), oferece excepcional resistência mecânica, estabilidade térmica e geração ultra-baixa de partículas, garantindo o manuseio livre de contaminação de wafers delicados.
Principais Características
1. Material de Alta Pureza (≥ 99% Al₂O₃)
Garante excelente resistência química e previne contaminação durante os processos de manuseio de wafers.
2. Resistência Superior ao Desgaste
Estende a vida útil mesmo sob operação automatizada contínua.
3. Excelente Estabilidade Térmica
Mantém a integridade estrutural em ambientes de processamento de alta temperatura.
4. Geração Ultra-Baixa de Partículas
Ideal para aplicações em salas limpas em fábricas de semicondutores.
5. Usinagem de Precisão
Tolerâncias apertadas e acabamento superficial liso para transferência de wafer segura e precisa.
Aplicações
Sistemas de manuseio de wafers de semicondutores
Robôs de transferência de wafer
Equipamento de processamento a vácuo
Sistemas de automação de sala limpa
Vantagens Técnicas
Material não metálico e não magnético
Alta rigidez dielétrica
Resistência à corrosão em ambientes agressivos
Compatível com ambientes de vácuo e plasma
Opções de Personalização
Fornecemos soluções personalizadas com base nos seus requisitos específicos:
Dimensões e geometria
Acabamento superficial (polimento, revestimento)
Interfaces de montagem
Integração com sistemas robóticos
Título Localizado (EUA)
Fornecedor de Braço Robótico para Manuseio de Wafer de Cerâmica de Alumina nos EUA | Componentes de Precisão para Semicondutores
Fragmento de Conteúdo Localizado
Fornecemos braços de transferência de wafer de alumina de alta qualidade para fabricantes de semicondutores nos Estados Unidos, incluindo Califórnia, Texas e Arizona. Nossos produtos atendem aos rigorosos requisitos de fábricas de semicondutores avançadas, garantindo confiabilidade, precisão e desempenho a longo prazo.
Envio internacional rápido e suporte de engenharia disponíveis para clientes dos EUA.
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| Tipo | Unidade | A‑100 | A‑200 | A‑300 | AZ‑100 |
| Material | - | Al₂O₃ 97% | Al₂O₃ 99.5% | Al₂O₃ 99.7% | Al₂O₃‑ZrO₂ |
| Cor | - | Marfim branco | Branco | Branco Marfim | Branco |
| Densidade | g/cm³ | 3.75 | 3.9 | 3.92 | 4.2 |
| Resistência à Flexão | MPa | 280 | 320 | 370 | 480 |
| Resistência à Compressão | MPa | 2250 | 2300 | 2450 | 2700 |
| Módulos de Elasticidade | GPa | 330 | 370 | 380 | 350 |
| Tenacidade à Fratura | MPa·m^½ | 3 | 4 | 4.5 | 5.5 |
| Coeficiente de Poisson | — | 0.23 | 0.22 | 0.22 | 0.24 |
| Dureza | HRA | 90 | 91 | 91 | 91 |
| Dureza Vickers | HV1 | 1450 | 1550 | 1600 | 1600 |
| Expansão Térmica | 10⁻⁶K⁻¹ | 7.1 | 6.8 | 6.8 | 9.2 |
| Condutividade Térmica | W/m·K | 25 | 32 | 32 | 8 |
| Choque Térmico | ΔT·℃ | 200 | 220 | 220 | 470 |
| Temp Máx de Uso (Oxidante) | ℃ | 1200 | 1400 | 1650 | 1000 |
| Temp. Máx. de Uso (Redução) | ℃ | 1200 | 1400 | 1700 | 1000 |
| Resistividade volumétrica (20℃) | Ω·cm | 10¹⁴ | 10¹⁵ | 10¹⁵ | 10¹⁴ |
| Rigidez Dielétrica | kV/mm | 16 | 20 | 22 | 16.5 |
| Constante Dielétrica (1MHz) | - | 11.5 | 11 | 10 | 11 |
| Perda Dielétrica (tanδ) | 1MHz | 3×10⁻³ | 1×10⁻³ | 1×10⁻³ | 2×10⁻² |