Braço de manuseio de wafer de cerâmica de alumina de alta pureza projetado para fabricação de semicondutores. Excelente estabilidade térmica, resistência ao desgaste e transferência de wafer sem contaminação. Soluções personalizadas disponíveis.
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Visão Geral do Produto
O Braço Robótico para Manuseio de Wafer de Cerâmica de Alumina é um componente de alto desempenho projetado para transferência precisa de wafers em ambientes de fabricação de semicondutores. Fabricado a partir de alumina de alta pureza (Al₂O₃), oferece excepcional resistência mecânica, estabilidade térmica e geração ultrabaixa de partículas, garantindo o manuseio livre de contaminação de wafers delicados.
Principais Características
1. Material de Alta Pureza (≥ 99% Al₂O₃)
Garante excelente resistência química e previne contaminação durante os processos de manuseio de wafers.
2. Resistência Superior ao Desgaste
Estende a vida útil mesmo sob operação automatizada contínua.
3. Excelente Estabilidade Térmica
Mantém a integridade estrutural sob ambientes de processamento de alta temperatura.
4. Geração Ultra-Baixa de Partículas
Ideal para aplicações em salas limpas em fábricas de semicondutores.
5. Usinagem de Precisão
Tolerâncias apertadas e acabamento superficial liso para transferência segura e precisa de wafers.
Aplicações
Sistemas de manuseio de wafers semicondutores
Robôs de transferência de wafer
Equipamento de processamento a vácuo
Sistemas de automação de sala limpa
Vantagens Técnicas
Material não metálico e não magnético
Alta rigidez dielétrica
Resistência à corrosão em ambientes agressivos
Compatível com ambientes de vácuo e plasma
Opções de Personalização
Fornecemos soluções personalizadas com base nos seus requisitos específicos:
Dimensões e geometria
Acabamento superficial (polimento, revestimento)
Interfaces de montagem
Integração com sistemas robóticos
Título Localizado (EUA)
Fornecedor de Braço Robótico para Manuseio de Wafer de Cerâmica de Alumina nos EUA | Componentes de Precisão para Semicondutores
Trecho de Conteúdo Localizado
Fornecemos braços de manuseio de wafers de cerâmica de alumina de alta qualidade para fabricantes de semicondutores em todos os Estados Unidos, incluindo Califórnia, Texas e Arizona. Nossos produtos atendem aos rigorosos requisitos de fábricas de semicondutores avançadas, garantindo confiabilidade, precisão e desempenho a longo prazo.
Envio internacional rápido e suporte de engenharia disponíveis para clientes dos EUA.
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| Tipo | Unidade | A‑100 | A‑200 | A‑300 | AZ‑100 |
| Material | - | Al₂O₃ 97% | Al₂O₃ 99,5% | Al₂O₃ 99,7% | Al₂O₃‑ZrO₂ |
| Cor | - | Marfim Branco | Branco | Branco Marfim | Branco |
| Densidade | g/cm³ | 3.75 | 3.9 | 3.92 | 4.2 |
| Resistência à Flexão | MPa | 280 | 320 | 370 | 480 |
| Resistência à Compressão | MPa | 2250 | 2300 | 2450 | 2700 |
| Módulos de Elasticidade | GPa | 330 | 370 | 380 | 350 |
| Tenacidade à Fratura | MPa·m^½ | 3 | 4 | 4,5 | 5.5 |
| Coeficiente de Poisson | — | 0,23 | 0.22 | 0,22 | 0.24 |
| Dureza | HRA | 90 | 91 | 91 | 91 |
| Dureza Vickers | HV1 | 1450 | 1550 | 1600 | 1600 |
| Expansão Térmica | 10⁻⁶K⁻¹ | 7,1 | 6.8 | 6.8 | 9,2 |
| Condutividade Térmica | W/m·K | 25 | 32 | 32 | 8 |
| Choque Térmico | ΔT·℃ | 200 | 220 | 220 | 470 |
| Temp. Máx. de Uso (Oxidante) | ℃ | 1200 | 1400 | 1650 | 1000 |
| Temp. Máx. de Uso (Redução) | ℃ | 1200 | 1400 | 1700 | 1000 |
| Resistividade Volumétrica (20℃) | Ω·cm | 10¹⁴ | 10¹⁵ | 10¹⁵ | 10¹⁴ |
| Rigidez Dielétrica | kV/mm | 16 | 20 | 22 | 16,5 |
| Constante Dielétrica (1MHz) | - | 11.5 | 11 | 10 | 11 |
| Perda Dielétrica (tanδ) | 1MHz | 3×10⁻³ | 1×10⁻³ | 1×10⁻³ | 2×10⁻² |