Hochreiner Aluminiumoxid-Keramik-Wafer-Handling-Arm für die Halbleiterfertigung. Hervorragende thermische Stabilität, Verschleißfestigkeit und kontaminationsfreie Wafer-Übertragung. Kundenspezifische Lösungen verfügbar.
Hauptschlüsselwort: Handhabungsarm für Aluminiumoxid-Keramikwafer
sekundäre Schlüsselwörter:
Keramik-Wafer-Transferarm
Roboterarm für Halbleiterwafer-Handling
Hochreine Aluminiumoxid-Komponenten
Endeffektor für Wafer-Handhabung
Präzisionskeramikarm für Halbleiter
Produktübersicht
Die Aluminiumoxid-Keramik-Wafer-Handling-Arm ist eine Hochleistungskomponente, die für die präzise Waferübertragung in der Halbleiterfertigung entwickelt wurde. Hergestellt aus hochreinem Aluminiumoxid (Al₂O₃), bietet sie außergewöhnliche mechanische Festigkeit, thermische Stabilität und extrem geringe Partikelbildung, um eine kontaminationsfreie Handhabung empfindlicher Wafer zu gewährleisten.
Hauptmerkmale
1. Hochreines Material (≥ 99 % Al₂O₃)
Gewährleistet ausgezeichnete chemische Beständigkeit und verhindert Kontamination während der Wafer-Handling-Prozesse.
2. Überlegene Verschleißfestigkeit
Verlängert die Lebensdauer auch bei kontinuierlichem automatisiertem Betrieb.
3. Ausgezeichnete thermische Stabilität
Behält strukturelle Integrität unter Hochtemperatur-Verarbeitungsumgebungen bei.
4. Ultra-geringe Partikelbildung
Ideal für Reinraumanwendungen in Halbleiterfabriken.
5. Präzisionsbearbeitung
Enge Toleranzen und glatte Oberflächengüte für sicheren und präzisen Wafer-Transfer.
Anwendungen
Handhabungssysteme für Halbleiterwafer
Wafer-Transfer-Roboter
Vakuumverarbeitungsanlagen
Reinraum-Automatisierungssysteme
Technische Vorteile
Nichtmetallisches, nichtmagnetisches Material
Hohe dielektrische Festigkeit
Korrosionsbeständigkeit in aggressiven Umgebungen
Kompatibel mit Vakuum- und Plasmaumgebungen
Anpassungsoptionen
Wir bieten maßgeschneiderte Lösungen basierend auf Ihren spezifischen Anforderungen:
Abmessungen und Geometrie
Oberflächenbearbeitung (Polieren, Beschichten)
Montageschnittstellen
Integration mit Robotersystemen
Lokaler Titel (US)
Aluminiumoxid-Keramik-Wafer-Handling-Arm-Lieferant in den USA | Präzisionskomponenten für Halbleiter
Lokalisierter Inhaltsausschnitt
Wir liefern hochwertige Aluminiumoxid-Keramik-Wafer-Handling-Arme an Halbleiterhersteller in den gesamten Vereinigten Staaten, einschließlich Kalifornien, Texas und Arizona. Unsere Produkte erfüllen die strengen Anforderungen fortschrittlicher Halbleiterfabriken und gewährleisten Zuverlässigkeit, Präzision und langfristige Leistung.
Schneller internationaler Versand und technischer Support für US-Kunden verfügbar.
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| Typ | Einheit | A‑100 | A‑200 | A‑300 | AZ‑100 |
| Material | - | Al₂O₃ 97 % | Al₂O₃ 99,5 % | Al₂O₃ 99,7% | Al₂O₃‑ZrO₂ |
| Farbe | - | Weiß-Elfenbein | Weiß | Elfenbeinweiß | Weiß |
| Dichte | g/cm³ | 3.75 | 3.9 | 3.92 | 4.2 |
| Biegefestigkeit | MPa | 280 | 320 | 370 | 480 |
| Druckfestigkeit | MPa | 2250 | 2300 | 2450 | 2700 |
| Elastizitätsmodule | GPa | 330 | 370 | 380 | 350 |
| Bruchzähigkeit | MPa·m^½ | 3 | 4 | 4,5 | 5.5 |
| Poissonzahl | — | 0,23 | 0.22 | 0,22 | 0.24 |
| Härte | HRA | 90 | 91 | 91 | 91 |
| Vickers-Härte | HV1 | 1450 | 1550 | 1600 | 1600 |
| Wärmeausdehnung | 10⁻⁶K⁻¹ | 7,1 | 6.8 | 6.8 | 9,2 |
| Wärmeleitfähigkeit | W/m·K | 25 | 32 | 32 | 8 |
| Thermischer Schock | ΔT·℃ | 200 | 220 | 220 | 470 |
| Max. Einsatztemperatur (oxidierend) | ℃ | 1200 | 1400 | 1650 | 1000 |
| Max. Einsatztemperatur (reduzierend) | ℃ | 1200 | 1400 | 1700 | 1000 |
| Spezifischer Durchgangswiderstand (20℃) | Ω·cm | 10¹⁴ | 10¹⁵ | 10¹⁵ | 10¹⁴ |
| Dielektrische Festigkeit | kV/mm | 16 | 20 | 22 | 16,5 |
| Dielektrizitätskonstante (1MHz) | - | 11.5 | 11 | 10 | 11 |
| Dielektrischer Verlust (tanδ) | 1MHz | 3×10⁻³ | 1×10⁻³ | 1×10⁻³ | 2×10⁻² |