Aluminium-Nitrid-Abdeckring | Hochleitfähiger AlN-Kompressionsring für Halbleitergeräte
Aluminium-Nitrid (AlN) Abdeckringe mit hoher Wärmeleitfähigkeit und elektrischer Isolierung. Ideal für Halbleitergeräte, Plasma-Systeme und Hochtemperaturumgebungen.
Aluminiumnitrid-Abdeckring
AlN-Druckring
Keramischer Abdeckring Halbleiter
Keramikring mit hoher Wärmeleitfähigkeit
isolierender Keramikring AlN
Plasma-Ausrüstungs-Keramikkreis
Produktübersicht
Der Aluminium-Nitrid (AlN) Abdeckring, auch bekannt als Kompressionsring, ist ein Hochleistungs-Keramikelement, das für Halbleiter- und Plasmaverarbeitungsausrüstungen entwickelt wurde. Mit ausgezeichneter Wärmeleitfähigkeit und elektrischer Isolierung werden AlN-Ringe häufig verwendet, um Komponenten in Hochtemperatur- und Reinraumbedingungen zu schützen, zu positionieren und zu stabilisieren.
Hauptmerkmale
1. Hohe Wärmeleitfähigkeit
Effiziente Wärmeableitung hilft, die thermische Stabilität in Halbleiterprozessen aufrechtzuerhalten.
2. Ausgezeichnete elektrische Isolierung
Stellt einen sicheren Betrieb in elektrisch sensiblen Umgebungen sicher.
3. Hohe Temperaturbeständigkeit
Geeignet für Plasma- und Hochtemperatur-Verarbeitungsbedingungen.
4. Dimensionale Stabilität
Behält Form und Präzision bei thermischer Wechselbelastung bei.
5. Geringe Partikelgenerierung
Ideal für Reinräume und kontaminationssensible Anwendungen.
Anwendungen
Halbleiterverarbeitungsgeräte
Plasma-Ätz- und Abscheidesysteme
Wafer-Handling und Kammerkomponenten
Vakuum- und Hochtemperatursysteme
Präzisionsindustriegeräte
Technische Vorteile
Verbessertes Wärmemanagement in Geräten
Reduziertes Kontaminationsrisiko in Reinraumumgebungen
Lange Lebensdauer unter rauen Betriebsbedingungen
Kompatibel mit fortschrittlichen Halbleiterprozessen
Anpassungsoptionen
Außen- und Innendurchmesser
Dicken- und Profildesign
Planheit und Oberflächenbearbeitung
Bearbeitung von Schlitzen, Löchern oder speziellen Merkmalen
OEM-Produktion basierend auf Zeichnungen
Lokalisierter Titel (USA)
Aluminiumnitrid-Abdeckringe für Halbleiteranlagen | Hochwärmeleitfähiger Keramiklieferant in den USA
Lokalisierter Inhaltsausschnitt
Wir liefern Hochleistungs-Aluminiumnitrid-Abdeckringe an Kunden in den gesamten Vereinigten Staaten für Halbleiter- und Plasmaverarbeitungsanwendungen. Unsere AlN-Ringe bieten hervorragendes Wärmemanagement, elektrische Isolierung und Haltbarkeit in anspruchsvollen Umgebungen.
OEM-Anpassung und technischer Support verfügbar.
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| KategorieQualität | AlN-HT170 | AlN-S170 | |
| Chemische ZusammensetzungAlN% | % | ≥99,5 | ≥99,5 |
| Chemische Struktur | |||
| Produktionsprozess | Heißpressen | Atmosphäre Sintern | |
| Produktionsprozess | |||
| Dichte | g/cm3 | ≥3.26g/cm3 | ≥3.3g/cm3 |
| Dichte | |||
| Wärmeleitfähigkeit (Raumtemperatur) | W/m.k | ≥170 | ≥170 |
| Wärmeleitfähigkeit bei 20℃ | |||
| Oberflächenrauhigkeit | µm | ≤ 2 | ≤ 2 |
| Oberflächenbeschaffenheit | |||
| Riedel-Härte | HL | 800 | 750 |
| Härte | |||
| Biegefestigkeit | MPa | ≥350 | ≥350 |
| Biegefestigkeit |
