Großformatige Aluminiumnitrid-Dünnplatten | Präzisionsbearbeitung von AlN im Wafer-Maßstab
Großformatige Aluminiumnitrid-Dünnplatten | Präzisionsbearbeitung von AlN im Wafer-Maßstab
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Großformatige Aluminiumnitrid-Dünnplatten | Präzisions-AlN-Wafer-Bearbeitung
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Spezifikationsnummer:SN0010043
Produkteinführung

Große Durchmesser Aluminium-Nitrid Dünne Platten | Präzise AlN Wafer-Scale Bearbeitung


Präzisionsbearbeitung von großformatigen Aluminiumnitrid (AlN)-Dünnplatten. Hohe Wärmeleitfähigkeit, ausgezeichnete Isolierung und überlegene Ebenheit für Halbleiter- und Elektronikanwendungen.


  • aluminum nitride thin plate

  • Großformatige AlN-Keramikplatte

  • AlN-Wafer-Bearbeitung

  • hochleitfähige keramische Platte

  • Präzisionskeramik-Dünnschicht

  • Halbleiter-AlN-Substrat


Produktübersicht

Großformatige Aluminiumnitrid (AlN) Dünnplatten sind präzise Keramikkomponenten, die für Hochleistungs-Wärmemanagement und elektronische Anwendungen entwickelt wurden. Mit fortschrittlichen Bearbeitungsmöglichkeiten erreichen diese Platten große Durchmesser, extrem dünne Dicken und hohe Ebenheit, was sie ideal für Halbleiteranlagen, elektronische Substrate und Wärmeableitungssysteme macht.


Hauptmerkmale

1. Großer Durchmesser
Unterstützt die Herstellung von Wafer-Größen und übergroßen Keramikplatten.

2. Ultradünne Verarbeitung
Erzielt minimale Dicke bei hoher struktureller Integrität.

3. Hohe Wärmeleitfähigkeit
Effiziente Wärmeableitung für Hochleistungsanwendungen in der Elektronik.

4. Ausgezeichnete elektrische Isolierung
Geeignet für empfindliche elektronische und Halbleiterumgebungen.

5. Hohe Ebenheit & Präzision
Stellt gleichmäßigen Kontakt und Leistung in präzisen Baugruppen sicher.


Anwendungen

  • Halbleitersubstrate und Gerätekomponenten

  • Elektronische Gehäuse und Wärmeverteiler

  • Thermomanagement für Leistungselektronik

  • Vakuum- und Plasmaverarbeitungsgeräte

  • Präzisions-Industriebaugruppen


Technische Vorteile

  • Überlegene Wärmeableitungsleistung

  • Stabile mechanische Eigenschaften in dünnen Strukturen

  • Geringe Wärmeausdehnung für Dimensionsstabilität

  • Geeignet für Reinraum- und Hochtechnikanwendungen


Anpassungsoptionen

  • Durchmesser und Dicke (ultradünne Kontrolle)

  • Ebenheits- und Parallelitätsspezifikationen

  • Oberflächenbearbeitung und Polieren

  • Bohrungsbearbeitung oder Musterverarbeitung

  • OEM-Produktion nach Zeichnung


Lokalisierter Titel (US)

Großformatige Aluminiumnitrid-Dünnplatten | Präzisions-Keramikbearbeitungsanbieter in den USA

Lokalisierter Inhaltsausschnitt

Wir bieten Präzisionsbearbeitung von großformatigen Aluminiumnitrid-Dünnplatten für Kunden in den gesamten Vereinigten Staaten an. Unsere AlN-Komponenten bieten hohe Wärmeleitfähigkeit, ausgezeichnete Isolation und überlegene Ebenheit für Halbleiter- und Elektronikanwendungen.

OEM-Anpassung und technische Unterstützung verfügbar.


🔹 CTA

  • Angebot für eine kundenspezifische AlN-Platte anfordern

  • Reichen Sie Ihre technischen Zeichnungen ein

  • Kontaktieren Sie unser Ingenieurteam


Materialeigenschaften


KategorieQualität AlN-HT170AlN-S170
Chemische ZusammensetzungAlN%%≥99,5≥99.5
Chemische Struktur
Produktionsprozess HeißpressenAtmosphärensinterung
Produktionsprozess
Dichteg/cm3≥3.26g/cm3≥3,3 g/cm3
Dichte
Wärmeleitfähigkeit (Raumtemperatur)W/m.K≥170≥170
Wärmeleitfähigkeit bei 20℃
Oberflächenrauheitµm≤ 2≤ 2
Oberflächenbeschaffenheit
RückerhärteHL800750
Härte
BiegefestigkeitMPa≥350≥350
Biegefestigkeit

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