Großformatige Aluminiumnitrid-Dünnplatten | Präzisions-AlN-Wafer-Bearbeitung
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Großformatige Aluminiumnitrid-Dünnplatten | Präzisions-AlN-Wafer-Bearbeitung
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Spezifikationsnummer:SN001Al2O3043
Produkteinführung

Großformatige Aluminiumnitrid-Dünnplatten | Präzisionsbearbeitung von AlN im Wafer-Maßstab


Präzisionsbearbeitung von großformatigen Aluminiumnitrid (AlN)-Dünnplatten. Hohe Wärmeleitfähigkeit, ausgezeichnete Isolation und überlegene Ebenheit für Halbleiter- und Elektronikanwendungen.


  • Aluminiumnitrid-Dünnplatte

  • Großformatige AlN-Keramikplatte

  • AlN-Wafer-Bearbeitung

  • Keramikplatte mit hoher Wärmeleitfähigkeit

  • Präzisionskeramik-Dünnschicht

  • Halbleiter AlN Substrat


Produktübersicht

Große Durchmesser Aluminium-Nitrid (AlN) Dünnplatten sind präzise keramische Komponenten, die für Hochleistungswärmemanagement und elektronische Anwendungen entwickelt wurden. Mit fortschrittlichen Bearbeitungsmöglichkeiten erreichen diese Platten große Durchmesser, ultra-dünne Dicke und hohe Ebenheit, was sie ideal für Halbleitergeräte, elektronische Substrate und Wärmeableitungssysteme macht.


Hauptmerkmale

1. Großer Durchmesser
Unterstützt die Herstellung von Wafer-Größen und übergroßen Keramikplatten.

2. Ultra-dünne Verarbeitung
Erreicht minimale Dicke mit hoher struktureller Integrität.

3. Hohe Wärmeleitfähigkeit
Effiziente Wärmeableitung für Hochleistungs-Elektronikanwendungen.

4. Ausgezeichnete elektrische Isolierung
Geeignet für empfindliche elektronische und Halbleiterumgebungen.

5. Hohe Ebenheit & Präzision
Gewährleistet gleichmäßigen Kontakt und Leistung in Präzisionsbaugruppen.


Anwendungen

  • Halbleitersubstrate und Komponenten für Anlagen

  • Elektronische Verpackungen und Wärmeverteiler

  • Wärmemanagement für Leistungselektronik

  • Vakuum- und Plasma-Prozessanlagen

  • Präzisions-Industrie-Baugruppen


Technische Vorteile

  • Überlegene Wärmeableitungsleistung

  • Stabile mechanische Eigenschaften in dünnen Strukturen

  • Geringe Wärmeausdehnung für Dimensionsstabilität

  • Geeignet für Reinraum- und High-Tech-Anwendungen


Anpassungsoptionen

  • Durchmesser und Dicke (ultradünne Kontrolle)

  • Ebenheits- und Parallelitätsspezifikationen

  • Oberflächenbearbeitung und Polieren

  • Bohrungsbearbeitung oder Musterverarbeitung

  • OEM-Produktion nach Zeichnung


Lokalisierter Titel (US)

Großformatige Aluminiumnitrid-Dünnplatten | Präzisions-Keramikbearbeitungsanbieter in den USA

Lokalisierter Inhaltsausschnitt

Wir bieten Präzisionsbearbeitung von großformatigen Aluminiumnitrid-Dünnplatten für Kunden in den gesamten Vereinigten Staaten an. Unsere AlN-Komponenten bieten hohe Wärmeleitfähigkeit, ausgezeichnete Isolation und überlegene Ebenheit für Halbleiter- und Elektronikanwendungen.

OEM-Anpassung und technischer Support verfügbar.


🔹 CTA

  • Angebot für eine kundenspezifische AlN-Platte anfordern

  • Reichen Sie Ihre technischen Zeichnungen ein

  • Kontaktieren Sie unser Ingenieurteam


Materialeigenschaften


KategorieGrad AlN-HT170AlN-S170
Chemische ZusammensetzungAlN%%≥99,5≥99.5
Chemische Struktur
Herstellungsprozess HeißpressenAtmosphärensintern
Produktionsprozess
Dichteg/cm3≥3.26g/cm3≥3.3g/cm3
Dichte
Wärmeleitfähigkeit (Raumtemperatur)W/m.K≥170≥170
Wärmeleitfähigkeit bei 20℃
Oberflächenrauheitµm≤ 2≤ 2
Oberflächenbeschaffenheit
RückerhärteHL800750
Härte
抗弯强度Mpa≥350≥350
Biegefestigkeit

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