Großformatige Aluminiumnitrid-Dünnplatten | Präzisions-AlN-Wafer-Bearbeitung
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Großformatige Aluminiumnitrid-Dünnplatten | Präzisions-AlN-Wafer-Bearbeitung
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Spezifikationsnummer:SN001Al2O3043
Produkteinführung

Großformatige Aluminiumnitrid-Dünnplatten | Präzisionsbearbeitung von AlN im Wafer-Maßstab


Präzisionsbearbeitung von großen Aluminium-Nitrid (AlN) Dünnplatten. Hohe Wärmeleitfähigkeit, ausgezeichnete Isolierung und überlegene Ebenheit für Halbleiter- und elektronische Anwendungen.


  • Aluminiumnitrid-Dünnplatte

  • große Durchmesser AlN-Keramikplatte

  • AlN Wafer-Skalierung Bearbeitung

  • Keramikplatte mit hoher Wärmeleitfähigkeit

  • Präzisionskeramische Dünnbleche

  • Halbleiter AlN Substrat


Produktübersicht

Große Durchmesser Aluminium-Nitrid (AlN) Dünnplatten sind präzise keramische Komponenten, die für leistungsstarkes Wärmemanagement und elektronische Anwendungen entwickelt wurden. Mit fortschrittlichen Bearbeitungsmöglichkeiten erreichen diese Platten große Durchmesser, ultradünne Dicke und hohe Ebenheit, was sie ideal für Halbleitergeräte, elektronische Substrate und Wärmeableitungssysteme macht.


Hauptmerkmale

1. Große Durchmesserfähigkeit
Unterstützt die Herstellung von Wafer- und übergroßen Keramikplatten.

2. Ultradünne Verarbeitung
Erreicht minimale Dicke mit hoher struktureller Integrität.

3. Hohe Wärmeleitfähigkeit
Effiziente Wärmeableitung für Hochleistungs-Elektronikanwendungen.

4. Ausgezeichnete elektrische Isolierung
Geeignet für empfindliche elektronische und Halbleiterumgebungen.

5. Hohe Flachheit & Präzision
Gewährleistet gleichmäßigen Kontakt und Leistung in Präzisionsbaugruppen.


Anwendungen

  • Halbleitersubstrate und Ausrüstungskomponenten

  • Elektronische Verpackungen und Wärmeverteiler

  • Thermisches Management in der Leistungselektronik

  • Vakuum- und Plasmaverarbeitungsanlagen

  • Präzisionsindustriemontagen


Technische Vorteile

  • Überlegene Wärmeableitungsleistung

  • Stabile mechanische Eigenschaften in dünnen Strukturen

  • Niedrige thermische Ausdehnung für dimensionsstabilität

  • Geeignet für Reinraum- und High-Tech-Anwendungen


Anpassungsoptionen

  • Durchmesser und Dicke (ultra-dünne Kontrolle)

  • Flachheits- und Parallelitätsanforderungen

  • Oberflächenbearbeitung und Polieren

  • Lochbearbeitung oder Musterverarbeitung

  • OEM-Produktion basierend auf Zeichnungen


Lokalisierter Titel (US)

Große Aluminium-Nitrid Dünnplatten | Präzisionskeramikbearbeitungsanbieter in den USA

Lokalisierter Inhaltsausschnitt

Wir bieten präzise Bearbeitung von großen Durchmessern Aluminium-Nitrid-Dünnplatten für Kunden in den Vereinigten Staaten an. Unsere AlN-Komponenten bieten hohe Wärmeleitfähigkeit, ausgezeichnete Isolierung und überlegene Flachheit für Halbleiter- und Elektronik-Anwendungen.

OEM-Anpassung und technischer Support verfügbar.


🔹 CTA

  • Anfrage für ein individuelles AlN-Plattenangebot

  • Reichen Sie Ihre technischen Zeichnungen ein

  • Kontaktieren Sie unser Ingenieurteam


Materialeigenschaften


KategorieGrad AlN-HT170AlN-S170
Chemische ZusammensetzungAlN%%≥99.5≥99.5
Chemische Struktur
Produktionsprozess HeißpressenAtmosphäre Sinterung
Produktionsprozess
Dichteg/cm3≥3.26g/cm3≥3.3g/cm3
Dichte
Wärmeleitfähigkeit (Raumtemperatur)W/m.k≥170≥170
Wärmeleitfähigkeit bei 20℃
Oberflächenrauheitum≤ 2≤ 2
Oberflächenbeschaffenheit
里氏硬度HL800750
Härte
抗弯强度Mpa≥350≥350
Biegefestigkeit

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